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표면처리기술사
1교시
11

알루미늄 합금의 표면처리 방법 중 산화피막을 형성하는 공정과정은 탈지 → 에칭 → 연마 → 스머트제거 → (a) → (b) → 봉공처리 → 건조이다. 괄호 (a), (b)의 작업공정 명칭을 쓰고 설명하시오.

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표면처리기술사
1교시
12

수소취성은 전기도금 과정에서 발생된 수소가 철강재에 침투하여 모재의 취성을 증가시키는 현상이다. 수소취성을 완화하기 위한 후처리 공정을 설명하시오.

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표면처리기술사
1교시
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이온 플레이팅의 기본 조건 4가지를 쓰시오.

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표면처리기술사
2교시
1

건식박막 증착공정인 반응성 스퍼터링(Reactive Sputtering)법에 대하여 설명하시오.

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표면처리기술사
2교시
2

스테인리스강의 예민화에 대하여 설명하시오.

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표면처리기술사
2교시
3

이온 빔(Ion Beam)으로 세척하는 방법에 대하여 설명하시오.

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표면처리기술사
2교시
4

가공 변질층(Deformed Layer)에 대하여 그림과 함께 설명하시오.

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표면처리기술사
2교시
5

화성피막처리인 인산염피막처리(Parkerizing)와 흑색산화피막처리(Black Oxidizing)를 비교하여 설명하시오.

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표면처리기술사
2교시
6

전기도금에서 양극과 음극의 전류효율(Current Efficiency)에 대하여 설명하시오.

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표면처리기술사
3교시
1

알루미늄의 양극산화(Anodizing) 공정에서 봉공처리의 목적과 방법을 설명하시오.

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표면처리기술사
3교시
2

진공박막 증착법인 ALD(Atomic Layer Deposition) 증착법에 대하여 설명하시오.

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표면처리기술사
3교시
3

스테인리스 재료의 화학연마(Chemical Polishing)와 전해연마(Electro Polishing)를 비교하여 설명하시오.

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표면처리기술사
3교시
4

친환경적인 표면처리 방법을 설명하시오.

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표면처리기술사
3교시
5

전해전위(電解電位)는 평형전위(平衡電位)보다 항상 크며 분극(分極) 편차의 크기를 과전압(過電壓)이라고 한다. 금속이온의 확산에 의한 활성화과전압(活性化過電壓)에 대하여 설명하시오.

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표면처리기술사
3교시
6

광택니켈도금을 위한 1차 광택제와 2차 광택제의 상호 평활작용에 대하여 설명하시오.

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표면처리기술사
4교시
1

강의 침탄경화법(Carburizing)에 대하여 설명하시오.

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표면처리기술사
4교시
2

CVS(Cyclic Voltammetry Stripping)의 전기화학적 원리와 응용기술에 대하여 설명하시오.

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표면처리기술사
4교시
3

박막의 면저항(Sheet Resistance)과 비저항의 관계식을 쓰고, 면저항 측정법인 4탐침 측정법(Four Point Probe)에 대하여 설명하시오.

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표면처리기술사
4교시
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피도금체의 활성화처리에 대하여 설명하시오.

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표면처리기술사
4교시
5

도금액의 유기 불순물과 무기 불순물의 유입경로, 도금에 미치는 현상, 불순물을 제거하는 방법을 설명하시오.

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